當前位置：青島佳鼎分析儀器有限公司>>產品展示>>沉積設備
半導體工藝技術一直在不斷縮小規模并朝著3D結構發展，這對薄膜沉積提出了挑戰
CanonAnelva二手物理氣相沉積PVD設備FC7100于2011年開始投入使用，適用于12英寸晶圓
AD-230LP是一種原子層沉積（ALD）系統，能夠在原子水平上控制薄膜厚度
AL-1通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑，僅利用表面反應沉積薄膜，實現了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率
PD-3800L是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
掃一掃訪問手機商鋪
以上信息由企業自行提供，信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業負責，化工機械設備網對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示：為規避購買風險，建議您在購買產品前務必確認供應商資質及產品質量。
